光学膜涂布设备

GMR系列

主要技术参数
PET	12~250 μm
涂布速度	10~150m/min
基材宽度	800~2300mm
多种涂布方式	凹版、微凹版、两辊、三辊、五辊、丝棒
光学膜专用干燥系统
双工位收卷零速自动接料，手动/自动随时切换
进口伺服驱动系统，自主研发张力控制系统，可同时搭配多种涂布方式
选配	(1)远程协助；(2)在线电晕；(3)在线UV固化；(4)气浮风箱